靶材、线圈组和金属材料

精度和超高纯度

我们的金属精炼工艺可以实现至亚微米等级的微观结构控制,并保持材料的一致性。
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可靠的供应

供应链的可靠性可保证一切平稳运行。
霍尼韦尔电子材料部 (HEM) 值得信赖,我们坚持向您提供采用无与伦比精度制造的优质产品和超高纯度材料。霍尼韦尔溅射靶材、线圈组和高纯金属材料可以完全满足半导体前端和后端封装工艺的制造需求。

我们的垂直整合金属材料产品可以保证:

  • 超高纯度
  • 深入的实验室研究
 
  • 金属产品一致性
  • 提供定制解决方案

sputtering-targets-honeywell减少停机时间,延长靶材寿命

稳定的靶材成分有助于保持生产运行。我们所拥有和运行的金属精炼和提纯工艺可以确保金属材料拥有业界较低的杂质颗粒数,并且可以实现统一的微观结构控制(低至亚微米级)。

我们可以满足您的任何需求。我们在冶金方面的专业特长有助于为您生产符合高效的轻量型产品(它们均由极优质的金属制成)。它们适用于物理气相沉积 (PVD) 应用中绝大多数的原始设备制造商 (OEM) 设计。我们已经提升了靶材生产能力和内部生产能力,以生产制造靶材所需的铜、钴、钛和钨等原材料。

与世界最大的半导体工业溅射靶材制造商之一合作,定会助您保持竞争优势。
我们专业的研究团队(位于Spokane)拥有深厚的应用知识功底和丰富的经验,可以帮助您设计出下一代产品。

随着光伏工业对靶材的需求不断增长,霍尼韦尔电子材料部也可发挥其技术优势,精确满足您的需求。

以下材料可采用定制工艺设计:

  • 主要金属 – Al/Ti、Cu/Ta、CoWTiW、TiAL
  • 半导体前端、凸块底部金属化 (UBM)
  • 硅通孔 (TSV)
  • 专利的ECAE工艺(超细颗粒尺寸)

coil-sets-tantalum优化产量

霍尼韦尔电子材料部优质的高纯度专用线圈组是为严格满足OEM规格和质量标准而精确制造的。它们可以在客户制造工艺中发挥卓越性能。

作为一家优秀的解决方案 (BKM) 供应商,我们能够保证按时交付按照客户规格制造的产品。与领先的高纯线圈组供应商合作,产品适用于Applied Materials Inc VECTRA™、ELECTRA®和 EnCoRe 。

我们可提供全系列的200 mm和300 mm钛(Ti)、钽 (Ta) 和铜 (Cu) 线圈组,并且可提供各种配置、纯度和表面处理。

线圈组是有些物理气相沉积 (PVD) 工艺所使用的高纯消耗品。我们一贯可靠的高纯金属和线圈组生产可使您的生产过程维持高产能。

线圈组特性:

  • 严格控制晶格尺寸
  • 洁净室封装
  • 成熟的计量技术
  • 分析能力

 

high-purity-metals-semiconductor高纯金属,专业精炼公司

除了供应靶材之外,我们还向电子、航空航天和其他要求严格的工业销售高纯金属材料。通过多年的研究和试验,并与突破性的冶金技术相结合,霍尼韦尔电子材料部 (HEM) 可以提供更高的产量和更小的颗粒性能,满足您在钛、铜、钴、钨和铝等材料方面的需求。

我们是专注于高纯金属材料精炼的垂直集成供应商,可以保证在您供应链上游所使用金属材料的高纯度和一致性。金属制造中的每一个关键生产步骤都是在我们自己的生产设施中完成的。
业界领先的纯度等级

我们可靠而精确的金属和合金成分可以保证产品的一致性。一致的合金成分可以保证每次都能提供您所需的产品性能。

纯度:

  • 钛:纯度可达5N5,氧气含量低于100 ppm
  • 钴:纯度可达5N,高PTF
  • 铜:纯度可达6N
  • 钨:粉末纯度可达5N8
  • 铝:纯度可达5N5;与Si和Cu合金
  • 镍:纯度可达4N85,无气泡
  • 海绵钛:纯度可达3N5,镍还原钠低于5 ppm
  • 电解精炼钛晶体:纯度可达99.999%(金属材料,加上盐,构成树枝状结晶),氧气含量< 100 ppm

在用于半导体应用的99.999%纯钛和钛制成品方面,我们也是全球最大的供应商之一。
如需更多信息以及特殊半导体制造需求,请与我们联系